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石英掩膜版
蘇打玻璃常用在STN-LCD、TN-LCD、FED、EL行業(yè)專(zhuān)用光學(xué)掩模版基材
類(lèi)別 石英掩膜版
常規(guī)尺寸(mm) 3"X3", 4"X4", 5"X5", 6"X6", 7"X7", 9"X9", 12"X12", 14"X17", 16"X18",20”x24”
450mm×550mm,400mm×400mm, 700mmX800mm
最大尺寸(mm) 850*1200
特殊尺寸(mm) 按客戶(hù)要求定做（XY=20~609mm）
基材厚度(mm) 2.3  3.0  5.0    6.4    8.0
鉻膜類(lèi)型 　　　ARC Anti-Reflective Chrome
熱性能（℃） 1730℃
溫度收縮系數(shù) 5.0*10-7 /℃ (20~200℃)
透過(guò)率 >90%(T=2.3mm；l=200nm）
折射率 1.46
垂直入射反射率 約2%（片面反射約1%）
耐酸性能 H2SO4(80℃,98%) 0.0?/min
耐堿性能 NaOH（Wt2%）0.4?/min
表面平整度 <20um（400*400*3.0mm)

小尺寸鉻版（≤9英寸）
類(lèi)別 超高精度/高精度（228.6mm*228.6mm） 中精度/低精度（228.6mm*228.6mm）
線(xiàn)縫尺寸
（μm） 		線(xiàn)縫精度
（μm） 		垂直度
（urad） 		總長(zhǎng)精度
（μm） 		位置精度
（μm） 		線(xiàn)縫尺寸
（μm） 		線(xiàn)縫精度
（μm） 		垂直度
（urad） 		總長(zhǎng)精度
（μm） 		位置精度
（μm）
石英 ≥1 ≤0.5 ≤0.5 <0.3 ≤0.1 ≥3 ≤0.5 ≤0.5 ≤0.5 ≤0.2

大尺寸鉻版（>9英寸）
類(lèi)別 超高精度/高精度（400mm*450mm） 中精度/低精度（400mm*450mm）
線(xiàn)縫尺寸
（μm） 		線(xiàn)縫精度
（μm） 		垂直度
（urad） 		總長(zhǎng)精度
（μm） 		位置精度
（μm） 		線(xiàn)縫尺寸
（μm） 		線(xiàn)縫精度
（μm） 		垂直度
（urad） 		總長(zhǎng)精度
（μm） 		位置精度
（μm）
石英 ≥2 ≤0.5 ≤0.5 ≤0.75 ≤0.5 ≥5 ≤1 ≤1 ≤1 ≤0.75
晶邊刻蝕工藝詳解
晶邊刻蝕工藝詳解

2025-12-26

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2026-01-23

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1.現(xiàn)有工藝復(fù)用優(yōu)先原則 2，新工藝開(kāi)發(fā)的成本-風(fēng)險(xiǎn)模型 1.腐蝕液配方設(shè)計(jì)三原則 原則2——工藝窗口寬泛化：±2℃時(shí)腐蝕速率變化<5%；HCl體系pH...

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